第286章 中芯的接管

这一章很安静,适合慢慢读。

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中芯会议室,长条桌旁坐满了中芯的核心工程师。

此时众人或好奇、或质疑地打量着眼前的年轻人,虽然众多技术人员都知道,中芯的江先生病重,公司的负责人肯定是需要更换的。

但看着眼前20岁出头的年轻面孔,众人心里都在打鼓,甚至害怕中芯好不容易搞起来的成绩,会被这个年轻人给败光。

许浪看着众人,也明白众人的想法,脸上依旧露出那副淡淡的笑容。

“我叫许浪,熊猫科技创始人,微聊科技创始人,大家应该或多或少听过我的名字。目前中芯有我的股份,我会带领你们完成40nm的良品率突破和量产。”

现场瞬间一片哗然,大家确实听过许浪的名字,龙国首富、熊猫手机、国产操作系统、第一个国内40nm流片的芯片,还有不少人手机上用的微聊。

但即便如此,即便许浪确实很厉害,那依旧是一个外人,这样的外行要怎么领导众人完成技术突破?

许浪也看出了众人的质疑与不信,也没打算继续解释,毕竟再多的解释,也不如事实来得有效。

直接把笔记本电脑连接到投影仪上,眼神认真地看着众人。

“好了,其他的话就不多说了,这几天我已经看过了中芯40nm全部的研发和生产资料了,具体的设备操作我肯定不如各位熟练,但技术的底层逻辑是相通的,我相信所有的工艺波动最终都会反映在数据上,我们现在最重要的就是摸清问题所在。”

很快,投影上出现了大量的数据,各种密密麻麻的数字和曲线,要是不懂的人,肯定会看得眼花缭乱,好在现场全都是技术骨干,自然能够看懂这些数据。

“过去三个月,我们一共生产了127批晶圆,报废了69批,我把所有报废原因做了分类统计,权重从高到低依次是:光刻对准误差32%,离子注入均匀性27%,cmp工艺缺陷21%,其他问题20%。”

许浪看向研发负责人老李。

“李工,你刚才说光刻对准误差是机械固有误差,目前无法找到问题,那为什么晶圆中心区域的对准偏差只有2nm,边缘区域却有8nm?如果是固有问题,应该整个晶圆都一样才对。”

老李愣了一下,没想到许浪居然会问出这么专业的问题,好一会儿才反应过来,支支吾吾地解释着。

“这个......这个我们也发现了,但一直没找到原因,可能是晶圆传送的时候变形了。”

“嗯,这个确实有可能,到时候查看一下相关热成像。晶圆在光刻前会被加热到100c,传送过程中要是冷却不均匀,在热胀冷缩下自然会导致变形,再加上光刻机的机械误差,或许这就是误差的来源。我只看到你们一直在调机械参数,却从来没考虑过温度的影响。”

众人都愣住了,所有人脸上写满了震惊,难道眼前这个年轻人是真的懂吗?要是不懂的话,也问不出这么专业的问题。

许浪不理会众人的惊讶目光,继续打开了下一页的资料,看向了另一个负责人。

“王工,离子注入的均匀性问题,你们一直在调注入剂量和扫描速度,那你们有没有测过晶圆表面的温度分布?离子注入时,晶圆中心温度比边缘高一些,温度越高离子的射程越远,掺杂浓度自然就越高,不控制温度的影响,永远不可能做到均匀。”

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